隨著中國“芯”計劃的確立，國家出臺了各項政策扶持國內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，第三代半導(dǎo)體的研制，國產(chǎn)化十新基建，引爆芯片強勁需求，展示芯片很強動力和潛力。半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)環(huán)境及設(shè)備的要求是極高的，就半導(dǎo)體芯片潔凈區(qū)的環(huán)境要求有哪些？合景凈化工程公司為您剖析解決方案如下：

一、半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)環(huán)境的要求

       由于電子產(chǎn)品在制造、生產(chǎn)過程中對室內(nèi)空氣環(huán)境和品質(zhì)的要求極為嚴(yán)格，主要以控制微粒和浮塵為主要對象，同時還對其環(huán)境的溫濕度、新鮮空氣量、噪聲等作出了嚴(yán)格的規(guī)定。

       1、室內(nèi)的噪聲級（空態(tài)）：不應(yīng)大于65dB(A)

       2、垂直流潔凈室滿布比不應(yīng)小于60%，水平單向流潔凈室不應(yīng)小于40%，否則就是局部單向流了。

       3、與室外的靜壓差不應(yīng)小于10Pa，不同空氣潔凈度的潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)之間的靜壓差不應(yīng)小于5Pa。

       4、潔凈室內(nèi)的新鮮空氣量應(yīng)取下列二項中的最大值：

       5、補償室內(nèi)排風(fēng)量和保持室內(nèi)正壓值所需的新鮮空氣量之和。

       6、保證供給潔凈室內(nèi)每人每小時的新鮮空氣量不小于40m3。

       7、凈化空調(diào)系統(tǒng)加熱器，應(yīng)設(shè)置新風(fēng)，超溫斷電保護(hù)，若采用點加濕時應(yīng)設(shè)置無水保護(hù)，寒冷地區(qū)，新風(fēng)系統(tǒng)應(yīng)設(shè)置防凍保護(hù)措施。無塵室的送風(fēng)量。

二、復(fù)雜設(shè)計施工與高建造費用

       電子芯片潔凈車間有著嚴(yán)格的潔凈度要求，可想而知，其設(shè)計施工也是相當(dāng)復(fù)雜的。此外，潔凈度越高，建造費用也越高。例如100級（FS 209）單向流潔凈室，僅室內(nèi)裝修與空調(diào)潔凈系統(tǒng)的建造費用為10000元/㎡。再加上消防、三廢、供配電和自控系統(tǒng)，建造費用更是高達(dá)25000元-30000元/㎡。

       當(dāng)完成電子芯片潔凈車間的建造后，還要經(jīng)過3方面的驗收，即：空態(tài)驗收、靜態(tài)驗收、動態(tài)驗收，只有完成驗收才能投入日常使用。因此，面臨巨大的技術(shù)風(fēng)險，以及后續(xù)運行、維護(hù)和調(diào)試、檢測的壓力。

三、半導(dǎo)體芯片溫濕度控制

       半導(dǎo)體（FAB）潔凈室中相對濕度的目標(biāo)值大約控制在30至50%的范圍內(nèi)，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內(nèi)，例如光刻區(qū)──或者在遠(yuǎn)紫外線處理（DUV）區(qū)甚至更小──而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內(nèi)。 

       因為相對濕度有一系列可能使?jié)崈羰铱傮w表現(xiàn)下降的因素，其中包括：

       1.細(xì)菌生長；

       2.工作人員感到室溫舒適的范圍；

       3.出現(xiàn)靜電荷；

       4.金屬腐蝕；

       5.水汽冷凝；

       6.光刻的退化；

       7.吸水性。

       細(xì)菌和其他生物污染（霉菌，病毒，真菌，螨蟲）在相對濕度超過60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對濕度超過30%時就可以增長。合景凈化工程公司認(rèn)為，應(yīng)將濕度控制在處于40%至60%的范圍之間時，可以使細(xì)菌的影響以及呼吸道感染降至最低。

       相對濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺舒適的適度范圍。濕度過高會使人覺得氣悶，而濕度低于30%則會讓人感覺干燥，皮膚皸裂，呼吸道不適以及情感上的不快。 

       高濕度實際上減小了潔凈室表面的靜電荷積累──這是人們希望的結(jié)果。較低的濕度比較適合電荷的積累并成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當(dāng)相對濕度超過50%時，靜電荷開始迅速消散，但是當(dāng)相對濕度小于30%時，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長一段時間。 

       相對濕度在35%到40%之間可以作為一個令人滿意的折中，半導(dǎo)體潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。 

       很多化學(xué)反應(yīng)的速度，包括腐蝕過程，將隨著相對濕度的增高而加快。所有暴露在潔凈室周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時，高濕度可以使反應(yīng)加速。幸運的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護(hù)型的氧化物，并阻止進(jìn)一步的氧化反應(yīng)；但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護(hù)能力的，因此，在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。 

       此外，在高的相對濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對濕度的負(fù)面影響；較低的相對濕度（約30%）使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑。 

       在半導(dǎo)體潔凈室中控制相對濕度不是隨意的。但是，隨著時間的變化，最好回顧一下常見的被普遍接受的實踐的原因和基礎(chǔ)。

       潔凈室行業(yè)壁壘高,下游客戶要求極其嚴(yán)格。IC 半導(dǎo)體、光電類產(chǎn)品制造商一次性建廠投資較高,其生產(chǎn)條件要求非常嚴(yán)格,任何一個小瑕疵會影響芯片和面板的良率,對潔凈室的穩(wěn)定性要求非常高。東莞市合景實業(yè)發(fā)展有限公司-合景凈化工程公司在光學(xué)電子潔凈廠房建設(shè)行業(yè)已有20余年，業(yè)務(wù)覆蓋全國，在光電行業(yè)潔凈工程建設(shè)有較大的品牌影響力，先后服務(wù)了多家百強企業(yè)，如：卡爾蔡司、中國電子CEC、華星光電、比亞迪、易事特、大族激光、美拜電子、光韻達(dá)、振華電子等企業(yè)，并獲得諸多優(yōu)質(zhì)工程榮譽。如想了解更多，敬請關(guān)注和聯(lián)系我們。